2nm工艺光掩模图案化技术突破

日本DNP实现2nm工艺光掩模图案化的技术突破与创新成果揭秘

随着信息技术的飞速发展，半导体制造工艺不断取得新的突破，作为全球领先的半导体制造国家之一，日本一直在努力推进其半导体制造技术的研...